超臨界清洗再生技術

超臨界清洗技術利用超臨界流體的獨特物理化學性質進行清洗。超臨界流體具有類似氣體的低黏度和高擴散率，以及類似液體的高溶解能力，使其成為理想的清洗介質。應用領域如
半導體製造
• 光刻膠去除：從厚膜光刻膠到納米級光刻膠的去除
• 高深寬比結構清洗：適用於3D NAND、TSV、濾心等複雜結構
• 金屬污染物去除：開發專門針對金屬離子污染的清洗工藝

精密光學
• 光學鏡片清洗：從大型望遠鏡鏡片到微型光學元件
• 光纖端面清潔：用於高性能光通信元件製造
航空航天
• 精密機械部件清洗：用於航空發動機零件的清洗
• 複合材料製造：在碳纖維複合材料生產中的應用
醫療器械
• 植入物清洗：確保醫療植入物的超高清潔度
• 藥物遞送系統：用於製備藥物載體微粒